【每日談】先進(jìn)制程國(guó)產(chǎn)化最陡峭的時(shí)刻將至，一文梳理光刻機(jī)最核心部件
2025-07-08 15:48
作者：SYSTEM
來(lái)源：早知道/脫水研報(bào)
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光刻機(jī)是芯片制程核心設(shè)備，對(duì)于光刻機(jī)核心部件，加工流程復(fù)雜、設(shè)備種類較多，是產(chǎn)業(yè)重要壁壘之一，目前我國(guó)光刻技術(shù)與全球先進(jìn)水平存在較大差距，大基金三期將重點(diǎn)扶持本土企業(yè)和關(guān)鍵技術(shù)瓶頸領(lǐng)域的項(xiàng)目，光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈有望優(yōu)先受益。
1）光刻機(jī)是芯片制程核心設(shè)備
光刻工藝直接決定芯片制造的細(xì)微化水平，光刻機(jī)的關(guān)鍵指標(biāo)是分辨率、焦深、套刻精度和產(chǎn)率，其中，分辨率提升方式包括縮短曝光波長(zhǎng)、增大數(shù)值孔徑、降低工藝因子以及多重曝光，增加焦深能夠促使光刻機(jī)容納各種工藝誤差，套刻精度影響光刻工藝良率和多重曝光水平，產(chǎn)率是光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的必要條件。
2）核心部件是光刻產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵壁壘
對(duì)于投影光學(xué)光刻機(jī)，主要部件包括光源、照明、物鏡、工件臺(tái)、調(diào)焦調(diào)平、對(duì)準(zhǔn)等，EUV光刻機(jī)特征顯著，體現(xiàn)在材料選擇、多層反射膜結(jié)構(gòu)、反射式投影系統(tǒng)、大功率光源以及磁懸浮工件臺(tái)等方面。
對(duì)于光刻機(jī)核心部件，加工流程復(fù)雜、設(shè)備種類較多，是產(chǎn)業(yè)重要壁壘之一。
據(jù)測(cè)算，2025E全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模為293.7億美元，照明+物鏡、光源、工件臺(tái)、其他部件市場(chǎng)規(guī)模為47.8、28.6、21.5、45.2億美元；
2025E全球EUV光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模為96億美元，EUV光刻機(jī)的照明+物鏡、光源、工件臺(tái)、其他部件市場(chǎng)規(guī)模為15.5、12.6、7.0、11.5億美元。
3）技術(shù)變革+產(chǎn)業(yè)協(xié)作是ASML的成功要領(lǐng)
開放與合作是光刻機(jī)發(fā)展的主旋律，ASML的供應(yīng)商遍布全球。
Zeiss：百年光學(xué)巨頭，ASML重要合作伙伴；
Cymer：主導(dǎo)全球光刻機(jī)光源市場(chǎng)，已被ASML收購(gòu)；
Gigaphoton：激光器光源領(lǐng)先供應(yīng)商，產(chǎn)品種類豐富；
TRUMPF：EUV激光器實(shí)力強(qiáng)大，Cymer重要合作伙伴；
萊寶：真空鍍膜設(shè)備品類豐富，下游涉及EUV鏡片鍍膜。
4）先進(jìn)制程設(shè)備國(guó)產(chǎn)化提速
目前我國(guó)光刻技術(shù)與全球先進(jìn)水平存在較大差距，大基金三期將重點(diǎn)扶持本土企業(yè)和關(guān)鍵技術(shù)瓶頸領(lǐng)域的項(xiàng)目，光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈有望優(yōu)先受益，關(guān)注光源、照明、物鏡、工件臺(tái)等核心部件及加工設(shè)備標(biāo)的。
①光刻機(jī)核心部件：福光股份、福晶科技、茂萊光學(xué)、波長(zhǎng)光電、美?？萍?、富創(chuàng)精密、永新光學(xué)、騰景科技；
②光刻機(jī)部件加工設(shè)備：匯成真空；
③光刻機(jī)整機(jī)：芯碁微裝。
研報(bào)來(lái)源：國(guó)海證券，杜先康，S0350523080003，光刻機(jī)行業(yè)深度報(bào)告（一）：核心部件篇，曙光已現(xiàn)。2025年7月6日
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